企业商机
剥离液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类型
  • 醇,醚
  • 产品性状
  • 液态
剥离液企业商机

需要说明的是,本发明剥离液中,推荐*由上述成分构成,但只要不阻碍本发明的效果,可以含有例如聚氧化烯烷基醚系、硅系的消泡剂等其它成分。以上说明的本发明剥离液可以通过将上述成分溶于水中来制备。需要说明的是,本发明剥离液的ph若为碱性则没有特别限定,但通常**将上述成分溶于水就成为碱性,因此没有特别必要调整ph。另外,本发明剥离液可以通过将上述成分分别分开预先溶于水,成为抗蚀剂的剥离液套件,将它们混合来制备。具体来说,可以举出以包含含有钾盐的第1液和含有溶纤剂的第2液为特征的抗蚀剂的剥离液套件、其中还包含含有硅酸盐的第3液的抗蚀剂的剥离液套件、进而在其中使上述其它成分适当含有于各液中的抗蚀剂的剥离液套件等。通过使用本发明剥离液对施加有抗蚀剂的基材进行处理,抗蚀剂被细小地粉碎。苏州性价比较好的剥离液的公司联系电话。南京显示面板用剥离液订做价格

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    随着国内电子制造产业和光电产业的迅速发展,光刻胶剥离液等电子化学品的使用量也大为増加。特别是纵观近几年度的光电行业,风靡全球的智能手持设备、移动终端等简直成为了光电行业的风向标:与之相关的光电领域得到了飞速的发展,镜头模组、滤光片、LTPS液晶显示面板、触摸屏幕、传感器件等等。而光电行业的其他领域,虽然也有增长,但是远不及与智能手持设备相关的光电领域。工业上所使用的剥离液主要是有机胺和极性有机溶剂的组合物,通过溶胀和溶解方式剥离除去光刻胶。上述有机胺可包括单乙醇胺(MEA),二甲基乙酰胺(DMAC),N-甲基甲酰胺(NMF),N-甲基ニ乙醇胺(MDEA)等。上述极性有机溶剂可包括二乙二醇甲醚(DGME),二乙二醇单丁醚(BDG),二甲亚砜(DMS0),羟乙基哌嗪(NEP)等。由于LCD液晶屏具有体积小、质量轻、清晰度高、图像色彩好等优点,被广泛应用于工业生产中,按目前使用的液晶电视、电脑显示屏等生命周期为6-8年计算,未来随着年代的更替,LCD的生产量液将会增加,从而导致剥离液的使用量也大量增加,剥离液大量使用的同时也产生大量剥离液废液。剥离液废液中除了含有少量高分子树脂和光敏剂外。 安徽京东方用的蚀刻液剥离液溶剂京东方用的哪家的剥离液?

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    技术领域:本发明涉及一种选择性剥离光刻胶制备微纳结构的方法,可用于微纳制造,光学领域,电学,生物领域,mems领域,nems领域。技术背景:微纳制造技术是衡量一个国家制造水平的重要标志,对提高人们的生活水平,促进产业发展与经济增长,保障**安全等方法发挥着重要作用,微纳制造技术是微传感器、微执行器、微结构和功能微纳系统制造的基本手段和重要基础。基于半导体制造工艺的光刻技术是**常用的手段之一。对于纳米孔的加工,常用的手段是先利用曝光负性光刻胶并显影后得到微纳尺度的柱状结构,再通过金属的沉积和溶胶实现图形反转从而得到所需要的纳米孔。然而传统的方法由于光刻过程中的散焦及临近效应等会造成曝光后的微纳结构侧壁呈现一定的角度(如正梯形截面),这会造成蒸发过程中的挂壁严重从而使lift-off困难。同时由于我们常用的高分辨的负胶如hsq,在去胶的过程中需要用到危险的氢氟酸,而氢氟酸常常会腐蚀石英,氧化硅等衬底从而影响器件性能,特别的,对于跨尺度高精度纳米结构的制备在加工效率和加工能力方面面临着很大的挑战。

    可选择的,旋涂光刻胶厚度范围为1000埃~10000埃。s3,执行离子注入:可选择的,离子注入剂量范围为1×1013cm-2~1×1016cm-2。s4,采用氮氢混合气体执行等离子刻蚀,对光刻胶进行干法剥离;如背景技术中所述,经过高剂量或大分子量的源种注入后,会在光刻胶的外层形成一层硬壳即为主要光刻胶层,主要光刻胶层包裹在第二光刻胶层外。使氮氢混合气体与光刻胶反应生成含氨挥发性化合物气体,反应速率平稳,等离子体氮氢混合气体与主要光刻胶层、第二光刻胶层的反应速率相等。等离子体氮氢混合气体先剥离去除主要光刻胶层,参考图8所示。再逐步剥离去除第二光刻胶层,参考图9和图10所示。可选的,等离子刻蚀气体是氮氢混合气体,氢氮混合比例范围为4:96~30:70。s5,对衬底表面进行清洗。可选择的,对硅片执行单片排序清洗。单片清洗时,清洗液喷淋到硅片正面,单片清洗工艺结束后残液被回收,下一面硅片清洗时再重新喷淋清洗液,清洗工艺结束后残液再被回收,如此重复。现有的多片硅片同时放置在一个清洗槽里清洗的批处理清洗工艺,在清洗过程中同批次不同硅片的反应残余物可能会污染其他硅片,或者上一批次硅片留在清洗槽的反应残余物可能会污染下一批次硅片。相比而言。剥离液的的性价比、质量哪家比较好?

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    本发明涉及剥离液技术领域:,更具体的说是涉及一种高世代面板铜制程光刻胶剥离液。背景技术::电子行业飞速发展,光刻胶应用也越来越。在半导体元器件制造过程中,经过涂敷-显影-蚀刻过程,在底层金属材料上蚀刻出所需线条之后,必须在除去残余光刻胶的同时不能损伤任何基材,才能再进行下道工序。因此,光刻胶的剥离质量也有直接影响着产品的质量。但是传统光刻胶剥离液虽然能剥离绝大部分光阻,但对于高世代面板(高世代面板是代指大尺寸的液晶面板),传统剥离液亲水性不够,水置换能力较差,容易造成面板边缘光刻胶残留。技术实现要素:本发明的目的是提供一种高世代面板铜制程光刻胶剥离液。为了实现上述目的,本发明采用如下技术方案:本申请公开了一种高世代面板铜制程光刻胶剥离液,包括以下质量组分:酰胺:50-60%;醇醚:35-45%;环胺与链胺:3-7%;缓蚀剂:%%;润湿剂:%%。的技术方案中,所述的酰胺为n-甲基甲酰胺、n-甲基乙酰胺、n,n-二甲基甲酰胺中的任意一种或多种。的技术方案中,所述的醇醚为二乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚中的任意一种或多种。的技术方案中。哪家的剥离液性价比比较高?扬州剥离液生产

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以往的光刻胶剥离液对金属的腐蚀较大,可能进入叠层内部造成线路减薄,药液残留,影响产品的质量。因此有必要开发一种不会对叠层晶圆产生过腐蚀的光刻胶剥离液。技术实现要素:本发明的主要目的在于提供一种用于叠层晶圆的光刻胶剥离液,既具有较高的光刻胶剥离效率,又不会对晶圆内层有很大的腐蚀。本发明通过如下技术方案实现上述目的:一种用于叠层晶圆的光刻胶剥离液,配方包括10~20wt%二甲基亚砜,10~20wt%一乙醇胺,5~11wt%四甲基氢氧化铵,~1wt%硫脲类缓蚀剂和~2wt%聚氧乙烯醚类非离子型表面活性剂,5~15wt%n-甲基吡咯烷酮和余量的去离子水。具体的。南京显示面板用剥离液订做价格

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