集成电路（IC）将多个晶体管、电阻、电容等元件集成在一块半导体芯片上，实现复杂功能。模拟集成电路：处理连续信号（如音频、电压），如运算放大器、数模转换器（DAC）。数字集成电路：处理离散信号（如二进制数据），如微处理器（CPU）、存储器（DRAM、Flash）、逻辑门电路。数模混合集成电路：结合模拟与数字功能，如模数转换器（ADC）、声音处理芯片。光电器件利用光-电转换效应，实现发光、探测或通信功能。发光器件：LED、激光二极管（LD）。计算与通信：CPU、GPU、5G基站芯片。无锡常用半导体器件服务费
2·光电二极管光电二极管的管芯也是一个PN结，只是结面积比普通二极管大，便于接收光线。但和普通二极管不同，光电二极管是在反向电压下工作的。它的暗电流很小，只有0 1微安左右。在光线照射下产生的电子----空穴对叫光生载流子，它们参加导电会增大反向饱和电流。光生载流子的数量与光强度有关，因此，反向饱和电流会随着光强的变化而变化，从而可以把光信号的变化转为电流及电压的变化。光电二极管的结构及符号如图表-29所示。光电二极管主要用于近红外探测器及光电转换的自动控制仪器中，还可以作为光导纤维通信的接收器件。江阴应用半导体器件厂家现货能源转换：太阳能电池、电动汽车逆变器。
图表3-31是硅光电池的结构和电路符号图。从图中可见硅光电池就是一个大面积PN结。光照可以使薄薄的P型区产生大量的光生载流子。这些光生电子和空穴，会向PN结方向扩散。扩散过程中，一部分电子和空穴复合消失，大部分扩散到PN结边缘。在结电场的作用下，大部分光生空穴被电场推回P型区而不能穿越PN结；大部分光生电阻却受到结电场的加速作用穿越PN结，到达N型区。随着光生电子在N型区的积累及光生空穴在P型号区的积累，会在在PN对的两侧产生一个稳定的电位差，这就是光生电动势。当光电池两端接有负载时，将有电流流过负载，起着电池的作用。
本章***节曾介绍过半导体材料的光敏特性，即当半导体材料受到一定波长光线的照射时，其电阻率明显减小，或说电导率增大的特性。这个现象也叫半导体的光电导特性。利用这个特性制作的半导体器件叫光电导器件。半导体材料的电导率是由载流子浓度决定的。载流子就是由半导体原子逃逸出来的电子及其留下的空位----- 空穴。电子从原子中逃逸出来，必须克服原子的束缚而做功，而光照正是向电子提供能量，使它有能力逃逸出来的一种形式。因此，光照可以改变载流子的浓度，从而改变半导体的电导率。常见的有双极型晶体管（BJT）和场效应晶体管（FET）。
**早的半导体激光器所用的PN结是同质结，以后采用双异质结结构。双异质结激光器的优点在于它可以使注入的少数载流子被限制在很薄的一层有源区内复合发光，同时由双异质结结构组成的光导管又可以使产生的光子也被限制在这层有源区内。因此双异质结激光器有较低的阈值电流密度，可以在室温下连续工作。光电池当光线投射到一个PN结上时，由光激发的电子空穴对受到PN结附近的内在电场的作用而向相反方向分离，因此在PN结两端产生一个电动势，这就成为一个光电池。把日光转换成电能的日光电池很受人们重视。较早应用的日光电池都是用硅单晶制造的，成本太高，不能大量推广使用。国际上都在寻找成本低的日光电池，用的材料有多晶硅和无定形硅等。引入杂质原子改变半导体导电类型（如N型掺磷、P型掺硼）。无锡常用半导体器件服务费
允许电流在一个方向流动，常用于整流、信号调制等。无锡常用半导体器件服务费
在MOS器件的基础上,又发展出一种电荷耦合器件 (CCD)，它是以半导体表面附近存储的电荷作为信息，控制表面附近的势阱使电荷在表面附近向某一方向转移。这种器件通常可以用作延迟线和存储器等；配上光电二极管列阵，可用作摄像管。中国半导体器件型号命名方法半导体器件型号由五部分（场效应器件、半导体特殊器件、复合管、PIN型管、激光器件的型号命名只有第三、四、五部分）组成。五个部分意义如下：***部分：用数字表示半导体器件有效电极数目。2-二极管、3-三极管无锡常用半导体器件服务费
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