企业商机
蚀刻液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 产品名称
  • 钼铝钼蚀刻液
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类别
  • 无机酸
  • 产品性状
  • 液态
蚀刻液企业商机

所述制备装置主体的内部中间部位活动连接有高效搅拌装置,所述制备装置主体的一侧中间部位嵌入连接有翻折观察板,所述制备装置主体的底端固定连接有装置底座,所述装置底座的内部底部固定连接有成品罐,所述装置底座的顶端一侧固定连接有盐酸装罐,所述装置底座的顶端另一侧固定连接有硝酸装罐,所述高效搅拌装置的内部顶部中间部位活动连接有旋转摇匀转盘,所述高效搅拌装置的内部顶部两侧活动连接有震荡弹簧件,所述震荡弹簧件的顶端固定连接有运转电机组,所述运转电机组的顶端电性连接有控制面板,所述高效搅拌装置的内部中间部位固定连接有致密防腐杆,所述致密防腐杆的内部内侧贯穿连接有搅动孔,所述盐酸装罐的内部一侧嵌入连接有嵌入引流口,所述嵌入引流口的一端固定连接有负压引流器,所述负压引流器的一端固定连接有注入量控制容器,所述注入量控制容器的内部内侧固定连接有注入量观察刻度线,所述注入量控制容器的一侧嵌入连接有限流销。推荐的,所述翻折观察板的内部顶部活动连接有观察窗翻折滚轮,所述观察窗翻折滚轮的底端活动连接有内嵌观察窗。推荐的,所述盐酸装罐的顶端嵌入连接有热水流入漏斗。推荐的,所述装置底座的内部两侧紧密焊接有加固支架。欢迎光临苏州博洋化学股份有限公司。广州BOE蚀刻液蚀刻液销售公司

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一种ito蚀刻液及其制备方法、应用方法技术领域1.本技术涉及化学蚀刻技术领域,具体涉及一种ito蚀刻液及其制备方法、应用方法。背景技术:2.目前,电子器件的基板表面(例如显示器件的阵列基板)通常带有一定图案的氧化铟锡(ito)膜,以便后续给电子器件可控通电。该ito膜通常通过化学蚀刻的方法蚀刻ito材料层形成。其中,对于多晶ito(p-ito)材料,所用蚀刻液主要包括硫酸系、王水系ito蚀刻液。王水系蚀刻液成本低,但其蚀刻速度快,蚀刻的角度难以控制,且容易对ito膜的下层金属造成二次腐蚀。技术实现要素:3.有鉴于此,为克服目前存在的技术难题,本技术提供了一种ito蚀刻液及其制备方法、应用方法。4.具体地,本技术首先方面提供了一种ito蚀刻液,所述ito蚀刻液包括以下重量份数的各组分:20-22份的盐酸,6-7份的硝酸,0.5-3份的酸抑制剂,0.5-3份的表面活性剂,以及水;其中,所述酸抑制剂包括n,n-二异丙基乙胺、n,n-二异丙基乙醇胺中的至少一种;所述表面活性剂包括聚氧乙烯脂肪胺、聚氧乙烯脂肪二胺中的至少一种。5.通过对蚀刻液中硝酸及盐酸的含量进行精确限定,以实现了对王水系蚀刻液蚀刻速度的初步调控,并在一定程度上实现了对蚀刻角度的控制(蚀刻角度小于35深圳天马用的蚀刻液蚀刻液联系方式BOE蚀刻液推荐苏州博洋化学股份有限公司。

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本实用涉及电子化学品生产设备技术领域,具体为高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置。背景技术:近年来,人们对半导体装置、液晶显示器的需求量不断增加的同时,对于这些装置所具有的配线、电极等的微小化、高性能化的要求也越来越严格,而蚀刻的效果能直接导致电路板制造工艺的好坏,影响高密度细导线图像的精度和质量,为了解决蚀刻液组合物蚀刻铝材料过程中,对蚀刻速率慢、难以控制蚀刻角度和不同金属层的蚀刻量而造成的多层配线的半导体装置的配线的断路、短路,得到较高的成品率,为保证其稳定性及蚀刻的平滑度及精度,在蚀刻液中需要加入多种组分,而常规的生产方法是将蚀刻液中的各组份在同一容器中一起混合。现有的高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置密封性差,连接安装步骤繁琐,还需要使用工具才能进行连接安装或拆卸,而且现有的高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置没有过滤的部件,蚀刻液中的各组份蚀刻液杂质含量多,且多种强酸直接共混存在较大的安全隐患,装置不够完善,难以满足现代社会的需求。所以,如何设计高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置,成为我们当前需要解决的问题。

silane)系偶联剂和水,上述硅烷系偶联剂使上述硅烷系偶联剂的反应位点(activesite)的数量除以上述硅烷系偶联剂的水解(hydrolysis)了的形态的分子量之后乘以。此外,提供一种选择硅烷系偶联剂的方法,其是选择用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*选择性蚀刻上述氮化物膜的蚀刻液组合物的硅烷系偶联剂的方法,其特征在于,选择上述硅烷系偶联剂的反应位点(activesite)的数量除以上述硅烷系偶联剂的水解(hydrolysis)了的形态的分子量之后乘以。发明效果本发明的蚀刻液组合物提供即使不进行另外的实验确认也能够选择在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*选择性蚀刻氮化物膜的效果和防蚀能力优异的硅烷系偶联剂的效果。此外,本发明的蚀刻液组合物提供在不损伤氧化物膜的同时*选择性蚀刻氮化物膜的效果。附图说明图1是示出3dnand闪存(flashmemory)制造工序中的一部分的图。图2和图3是示出制造3dnand闪存时氮化物膜去除工序(湿法去除氮化物(wetremovalofnitride))中所发生的工序不良的图。图4是示出能够将3dnand闪存制造工序中发生的副反应氧化物的残留以及氧化物膜损伤不良**少化的、硅烷系偶联剂适宜防蚀能力范围的图。图5是示出硅烷系偶联剂的aeff值与蚀刻程度。性价比高的蚀刻液哪里可以买到;

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也不能在回收结束后对装置内部进行清理的问题。为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种废铜蚀刻液的回收处理装置,包括装置主体,所述装置主体内部中间位置固定安装有分隔板,所述分隔板左端表面靠近中间位置固定安装有承载板,所述承载板上端表面放置有电解池,所述电解池内部中间位置设置有隔膜,所述装置主体上端表面靠近右侧安装有进液漏斗,所述进液漏斗上设置有过滤网,所述装置主体内部靠近顶端设置有进液管,所述进液管左端连接有伸缩管,所述伸缩管下端安装有喷头,所述装置主体上端表面靠近左侧固定安装有液压缸,所述液压缸下端安装有伸缩杆,所述伸缩杆下端固定安装有圆环块,所述圆环块与喷头之间固定连接有连接杆,所述分隔板右端表面靠近上端固定安装有增压泵,所述增压泵下端与电解池之间连接有回流管,所述增压泵上端与进液管之间连接有一号排液管,所述回流管内部左端设置有一号电磁阀,所述装置主体左端表面靠近上端固定安装有抽气泵,所述抽气泵下方设置有集气箱,所述集气箱与抽气泵之间连接有排气管,所述电解池下端连接有二号排液管,所述二号排液管内部上端设置有二号电磁阀,所述装置主体内部底端靠近左侧设置有倾斜板。蚀刻液的大概费用大概是多少?广东京东方用的蚀刻液蚀刻液配方技术

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下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。图1是实施例一中公开的储存罐与拖车的安装结构图;图2是实施例二中公开的储存罐与拖车的安装结构图;图3是实施例三中公开的储存罐与拖车的安装结构图;图4是实施例四中公开的储存罐与拖车的安装结构图。具体实施方式下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例一铝蚀刻液生产设备,包括混合罐、过滤器和数个小型的储存罐,混合罐通过液管与过滤器连接,过滤器的出液口处安装有气动升降式出液管,每个储存罐的进液口和出液口中安装有一只单向液动阀,过滤器的出液管自动下行插入储存罐的进液口中,将过滤后的铝蚀刻液注入储存罐内暂存。请参阅图1,储存罐10固定在一辆液压升降式拖车20的顶部,在过滤器的下方设置地磅30,载有空储存罐的拖车置于地磅上方,过滤器的出液管自动下行插入储存罐的进液口中,当地磅所测得的重量达到系统预设重量时,过滤器的出液管自动上行离开储存罐。将装满的储存罐从铝蚀刻液生产车间移动至自动灌装车间中,将灌装头的快速接头插入储存罐的出液口中便可将储存罐内的铝蚀刻液分装。拖车的底部具有滚轮21,即使滚轮带有刹车。广州BOE蚀刻液蚀刻液销售公司

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