UV膜残胶导致芯片贴装失效。中清航科研发酶解清洗液，在50℃下选择性分解胶层分子链，30秒清理99.9%残胶且不损伤铝焊盘，替代高污染溶剂清洗。针对3DNAND多层堆叠结构，中清航科采用红外视觉穿透定位+自适应焦距激光，实现128层晶圆的同步切割。垂直对齐精度±1.2μm，层间偏移误差<0.3μm。中清航科绿色方案整合电絮凝+反渗透技术，将切割废水中的硅粉、金属离子分离回收，净化水重复利用率达98%，符合半导体厂零液体排放（ZLD）标准。中清航科晶圆切割代工获ISO 9001认证，月产能达50万片。上海芯片晶圆切割刀片
在半导体设备国产化替代的浪潮中，中清航科始终坚持自主创新，中心技术100%自主可控。其晶圆切割设备的关键部件如激光发生器、精密导轨、控制系统等均实现国产化量产，不仅摆脱对进口部件的依赖，还将设备交付周期缩短至8周以内，较进口设备缩短50%，为客户抢占市场先机提供有力支持。展望未来，随着3nm及更先进制程的突破，晶圆切割将面临更小尺寸、更高精度的挑战。中清航科已启动下一代原子级精度切割技术的研发，计划通过量子点标记与纳米操控技术，实现10nm以下的切割精度，同时布局晶圆-封装一体化工艺，为半导体产业的持续发展提供前瞻性的技术解决方案，与全球客户共同迈向更微观的制造领域。舟山sic晶圆切割测试超窄街切割方案中清航科实现30μm道宽，芯片数量提升18%。
面对全球半导体产业链的区域化布局趋势，中清航科建立了覆盖亚洲、欧洲、北美地区的本地化服务网络。其7×24小时在线技术支持团队，可通过远程诊断系统快速定位设备故障，配合就近备件仓库，将平均故障修复时间（MTTR）控制在4小时以内，确保客户生产线的连续稳定运行。绿色制造已成为半导体行业的发展共识，中清航科在晶圆切割设备的设计中融入多项节能技术。其研发的变频激光电源，能源转换效率达到92%，较传统设备降低30%的能耗；同时采用水循环冷却系统，水资源回收率达95%以上，帮助客户实现环保指标与生产成本的双重优化。
中清航科飞秒激光双光子聚合技术：在PDMS基板上直写三维微流道（最小宽度15μm），切割精度达±0.25μm，替代传统光刻工艺，开发成本降低80%。中清航科推出“切割即服务”（DaaS）：客户按实际切割面积付费（$0.35/英寸），包含设备/耗材/维护全包。初始投入降低90%，产能弹性伸缩±50%，适配订单波动。中清航科共聚焦激光测距系统实时监测切割深度（分辨率0.1μm），闭环控制切入量。将150μm晶圆切割深度误差压缩至±2μm，背面研磨时间减少40%。晶圆切割机预防性维护中清航科定制套餐，设备寿命延长5年。
随着半导体市场需求的快速变化，产品迭代周期不断缩短，这对晶圆切割的快速响应能力提出更高要求。中清航科建立了快速工艺开发团队，承诺在收到客户新样品后72小时内完成切割工艺验证，并提供工艺报告与样品测试数据，帮助客户加速新产品研发进程，抢占市场先机。晶圆切割设备的操作安全性至关重要，中清航科严格遵循SEMIS2安全标准，在设备设计中融入多重安全保护机制。包括激光安全联锁、急停按钮、防护门检测、过载保护等，同时配备安全警示系统，实时显示设备运行状态与潜在风险，确保操作人员的人身安全与设备的安全运行。5G射频芯片切割中清航科特殊工艺，金线偏移量＜0.8μm。上海芯片晶圆切割刀片
晶圆切割全流程追溯系统中清航科开发，实现单芯片级质量管理。上海芯片晶圆切割刀片
晶圆切割是半导体封装的中心环节，传统刀片切割通过金刚石砂轮实现材料分离。中清航科研发的超薄刀片（厚度15-20μm）结合主动冷却系统，将切割道宽度压缩至30μm以内，崩边控制在5μm以下。我们的高刚性主轴技术可适配8/12英寸晶圆，切割速度提升40%，为LED、MEMS器件提供经济高效的解决方案。针对超薄晶圆（<50μm）易碎裂难题，中清航科激光隐形切割系统采用红外脉冲激光在晶圆内部形成改性层，通过扩张膜实现无应力分离。该技术消除机械切割导致的微裂纹，良率提升至99.3%，尤其适用于存储芯片、CIS等器件，助力客户降低材料损耗成本。上海芯片晶圆切割刀片
