中国澳门半导体PAT工具

当测试工程师面对来自ETS88、J750、93k等多台设备输出的stdf、log、jdf等格式混杂的原始数据时，传统人工清洗往往需耗费数小时核对字段、剔除重复记录。YMS系统通过自动解析引擎识别各类数据结构，检测重复性与缺失性，并过滤异常值，将清洗过程压缩至分钟级。清洗后的数据统一归入标准化数据库，确保后续分析基于一致、干净的数据源。工程师不再陷于繁琐整理，而是聚焦于缺陷模式识别与工艺优化建议。这种自动化处理不仅提升效率，更消除人为疏漏带来的分析偏差。上海伟诺信息科技有限公司将数据清洗作为YMS的基础能力，支撑客户实现高效、可靠的良率管理。Mapping Over Ink处理强化封测环节质量防线，拦截潜在失效风险Die。中国澳门半导体PAT工具

面对stdf、log、jdf等格式混杂的测试数据流，传统手工转换不仅耗时，还易引入人为错误。YMS系统采用智能解析与清洗技术，自动校验字段一致性，对缺失或错位字段进行逻辑补全或标记，确保每条记录结构完整。系统支持批量历史数据导入与实时测试流同步处理，无论数据来自ASL1000还是TR6850，均能统一转化为可用于分析的标准数据集。在此基础上，异常值被自动过滤，重复记录被精确剔除，明显提升数据可信度。这种端到端的自动化处理机制，使工程师无需再耗费数小时整理原始文件，而是直接聚焦于根因分析。上海伟诺信息科技有限公司基于半导体制造的实际数据特征，构建了这一高效可靠的数据预处理体系。河南半导体GDBC平台PAT模块通过统计方法识别电性参数异常但功能Pass的单元，剔除隐性风险芯片。

传统良率卡控依赖人工设定固定阈值，难以适应产品迭代或工艺波动。YMS系统基于历史测试数据自动计算SYL（良率下限）与SBL（良率控制线），并根据统计规律动态调整控制边界。当某批次实际良率跌破SBL时，系统立即触发告警，通知质量人员介入；若连续多批接近SYL，则提示需启动工艺评审。该机制将质量防线前置，防止低良率晶圆流入昂贵的封装环节，有效控制报废成本。自动计算替代经验估算，确保卡控标准客观、一致且可追溯。上海伟诺信息科技有限公司将SYL、SBL自动卡控作为YMS的关键功能，支撑客户实现过程质量的主动管理。

为提升晶圆测试（CP测试）的质量与可靠性，行业的关注点已从单一的电性性能测试，扩展到电性与物理外观并重的综合质量评估。因此，越来越多的公司在CP测试环节中，引入外观检测设备（AOI,AutomatedOpticalInspection），对晶圆上每个Die的表面进行高精度、自动化的扫描与检测，以识别并剔除那些存在裂纹、划痕、污染、崩边或缺损等物理缺陷的不良品。这种做法的价值在于，它弥补了传统电性测试的盲区。一颗芯片可能电性参数测试“通过”，但其物理结构已存在潜在损伤。这类“带伤”的芯片在后续的封装应力或终端应用中有极高早期失效的风险，是产品可靠性的重大隐患。通过AOI检测，可以在晶圆阶段就将这些物理不良品精确拦截。
上海伟诺信息科技有限公司提供专业的AOI与Probe Mapping堆叠方案，解决两大关键问题：一是通过数据融合，筛除外观与电性的全部不良品，生成高可靠性的合一Mapping；二是具备优异的兼容性，可将合并后的Mapping直接转换为各类探针台（如TSK、TEL、UF3000等）可识别的格式，实现从质量判定到生产执行的自动化，有效提升品质与效率。上海伟诺信息科技Mapping Bin 转换功能，可以将Wafer Map上指定坐标的芯片进行Ink。

当封测厂每日面对来自数十台测试机台的海量异构数据时，传统手工汇总方式已难以满足实时质量管控需求。YMS系统通过自动化流程，即时采集并清洗ETS364、TR6850、ASL1000、MS7000等设备输出的原始测试数据，剔除重复、缺失与异常记录，构建高可信度的数据底座。标准化数据库支持从时间轴追踪良率波动，或聚焦晶圆特定区域识别系统性缺陷，结合WAT、CP、FT参数变化，快速定位工艺偏差根源。例如，当某批次FT良率骤降时，系统可联动CP数据判断是否为封装环节引入问题，缩短排查周期达数小时。图表化界面与日报、周报、月报自动生成机制，使管理层能基于一致数据源高效决策。上海伟诺信息科技有限公司凭借对半导体制造流程的深入理解，将YMS打造为数据驱动质量改进的关键工具。上海伟诺信息科技SPAT功能，通过结合测试数据去除超出规范的芯片并生成新的Mapping。江西GDBC系统定制

Mapping Over Ink处理算法模型覆盖连续性、孤立型等多种失效模式，提升识别全面性。中国澳门半导体PAT工具

国产良率管理系统的价值在于将碎片化测试数据转化为可执行的工艺洞察。YMS系统自动对接ASL1000、SineTest、MS7000、CTA8280、T861、Juno、AMIDA等主流设备，处理十余种格式原始数据，确保从晶圆到芯片级的数据链完整可靠。系统不仅清洗异常记录，还通过图表直观展示良率在不同时间段或晶圆象限的差异。这有助于工程师判断是否为光刻对准偏差或刻蚀不均所致。结合WAT、CP与FT参数联动分析，可区分设计缺陷与制造变异，缩短问题排查周期。这种从“看见异常”到“理解根因”的能力，推动质量改进从被动响应转向主动预防。上海伟诺信息科技有限公司凭借对半导体制造流程的深入理解，推动YMS成为国产替代的关键支撑。中国澳门半导体PAT工具

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