先进制程流片面临技术门槛高、产能紧张等问题，中清航科凭借与先进晶圆厂的深度合作，构建起独特的先进制程流片代理能力。针对7nm及以下工艺，组建由前晶圆厂工程师组成的技术团队，能为客户提供从设计规则解读、DFM分析到工艺参数优化的全流程支持。在EUV光刻环节，中清航科的技术人员可协助客户优化光刻胶选择与曝光参数，使EUV层的良率提升10%以上。为应对先进制程流片的高成本问题，推出阶梯式付款方案，将流片费用分为设计审核、掩膜制作、晶圆生产、测试等阶段支付，缓解客户的资金压力。目前已代理50余款先进制程芯片流片项目，涉及AI芯片、高性能处理器等领域，帮助客户缩短先进制程产品的上市周期。中清航科确保全流程符合RoHS/REACH法规，规避出口风险。淮安TSMC 110nm流片代理
流片过程的复杂性往往让设计企业望而生畏，中清航科通过标准化流程再造，将流片环节拆解为12个关键节点，每个节点都配备专属技术人员负责。在项目启动阶段，其DFM工程师会对客户的GDSII文件进行多方面审查，重点检查光刻层对齐、金属线宽等可制造性问题，平均能提前发现80%的潜在生产隐患。进入晶圆厂生产阶段，项目经理会建立每日进度通报机制，通过可视化平台实时展示晶圆生产状态，包括清洗、光刻、蚀刻等各工序的完成情况。针对突发状况，中清航科建立了三级应急响应体系，普通问题4小时内给出解决方案，重大问题24小时内协调晶圆厂技术团队共同处理，去年流片项目的按时交付率达到98.7%，远超行业平均水平。连云港TSMC 180nm流片代理中清航科车规流片包，含HTOL/UBM等全套认证测试。
流片周期的长短直接影响产品的市场竞争力，中清航科通过流程优化与资源调度，打造出行业的快速流片能力。针对成熟制程，建立“绿色通道”服务，将传统10-12周的流片周期缩短至6-8周，其中掩膜版制作环节通过与掩膜厂的联合加急，实现72小时快速交付。在晶圆生产阶段，利用多晶圆厂资源池，根据客户需求灵活调配产能，当主供晶圆厂产能紧张时，48小时内可切换至备用晶圆厂，确保流片计划不受影响。为让客户实时掌握进度，开发了流片进度可视化平台，通过甘特图直观展示各环节进度，关键节点完成后自动推送通知，同时支持客户在线查询晶圆测试数据与良率报告。去年某客户的5G芯片因市场需求紧急，中清航科启动加急流片服务，将原本8周的周期压缩至5周，帮助客户提前抢占市场。
在芯片设计企业的研发周期不断压缩的当下，快速流片成为抢占市场的关键。中清航科推出的“极速流片通道”，针对28nm及以上成熟制程，可将传统12周的流片周期缩短至8周，其中掩膜版制备环节通过与掩膜厂的联合调度，实现48小时快速出片。同时配备专属项目经理全程跟进，建立7×24小时进度通报机制，让客户实时掌握流片各阶段状态，确保研发项目按时推进。面对不同类型芯片的流片需求，中清航科提供定制化代理服务。针对车规级芯片，其建立了符合AEC-Q100标准的全流程管控体系，从晶圆厂选择、工艺参数锁定到可靠性测试，均严格遵循汽车电子质量管理规范，已成功代理超过50款车规MCU的流片项目。对于AI芯片等产品，则依托与先进制程晶圆厂的合作优势，提供CoWoS、InFO等先进封装流片一站式服务。光罩版图合规检查中清航科系统，7天完成全芯片验证。
针对人工智能（AI）芯片的流片需求，中清航科提供AI芯片专项流片服务。其技术团队熟悉GPU、TPU、NPU等AI芯片的流片工艺，能为客户提供计算单元设计、存储架构布局、互连网络优化等专业服务。通过与先进制程晶圆厂合作，引入HBM（高带宽内存）集成、Chiplet互连等先进技术，提升AI芯片的算力与能效比。已成功代理多个云端AI芯片与边缘AI芯片的流片项目，产品的算力密度达到国际先进水平。中清航科的流片代理服务展望未来，计划在以下领域持续发力：一是进一步深化与先进制程晶圆厂的合作，拓展3nm及以下工艺的流片代理能力；二是加强与新兴技术领域的合作，如量子计算、脑机接口等，提供前沿芯片的流片代理服务；三是推进流片服务的智能化与数字化，开发更先进的AI驱动流片管理平台；四是扩大全球服务网络，在更多国家与地区建立本地化服务团队。通过持续努力，致力于成为全球的流片代理服务提供商，为半导体产业的发展做出更大贡献。通过中清航科完成5次流片，享VIP厂线直通权限。泰州TSMC 110nm流片代理
中清航科静电防护方案，流片过程ESD损伤率降至0.01%。淮安TSMC 110nm流片代理
芯片流片的制造过程一般包括以下步骤：1.制备晶圆。芯片的制造需要在一块圆形的硅基片上进行，这个基片一般称为晶圆。制备晶圆的过程包括清洗、抛光、化学蚀刻等步骤。这个步骤的目的是确保晶圆表面的平整度和纯度，为后续的工作打好基础。2.运用光刻技术打印电路图案。光刻是一种通过曝光和蚀刻来制造芯片的技术，它的原理是利用高清晰度的光刻胶和镭射光来进行芯片电路的图案制造。这个过程需要一个***来进行。3.沉积金属。制造芯片还需要沉积金属，这一步骤主要是在晶圆表面涂上一层金属，包括铜、钨等金属。这个过程可以用物相沉积等技术来实现。淮安TSMC 110nm流片代理
