中清航科飞秒激光双光子聚合技术：在PDMS基板上直写三维微流道（最小宽度15μm），切割精度达±0.25μm，替代传统光刻工艺，开发成本降低80%。中清航科推出“切割即服务”（DaaS）：客户按实际切割面积付费（$0.35/英寸），包含设备/耗材/维护全包。初始投入降低90%，产能弹性伸缩±50%，适配订单波动。中清航科共聚焦激光测距系统实时监测切割深度（分辨率0.1μm），闭环控制切入量。将150μm晶圆切割深度误差压缩至±2μm，背面研磨时间减少40%。晶圆切割MES系统中清航科定制，实时追踪每片切割工艺参数。苏州sic晶圆切割测试
中清航科动态线宽控制系统利用实时共焦传感器监测切割槽形貌，通过AI算法自动补偿刀具磨损导致的线宽偏差（精度±0.8μm）。该技术使12英寸晶圆切割道均匀性提升至97%，芯片产出量增加5.3%，年节省材料成本超$150万。针对消费电子量产需求，中清航科开发多光束并行切割引擎。6路紫外激光（波长355nm）通过衍射光学元件分束，同步切割效率提升400%，UPH突破300片（12英寸），单颗芯片加工成本下降至$0.003。先进制程芯片的低k介质层易在切割中剥落。中清航科采用局部真空吸附+低温氮气幕技术，在切割区形成-30℃微环境，结合纳米涂层刀具，介质层破损率降低至0.01ppm，通过3nm芯片可靠性验证。上海芯片晶圆切割厂切割路径智能优化系统中清航科研发，复杂芯片布局切割时间缩短35%。
晶圆切割/裂片是芯片制造过程中的重要工序，属于先进封装(advancedpackaging)的后端工艺(back-end)之一，该工序可以将晶圆分割成单个芯片，用于随后的芯片键合。随着技术的不断发展，对高性能和更小型电子器件的需求增加，晶圆切割/裂片精度及效率控制日益不可或缺。晶圆切割的重要性在于它能够在不损坏嵌入其中的精细结构和电路的情况下分离单个芯片，成功与否取决于分离出来的芯片的质量和产量，以及整个过程的效率。为了实现这些目标，目前已经开发了多种切割技术，每种技术都有其独特的优点和缺点。
中清航科创新性推出“激光预划+机械精切”复合方案：先以激光在晶圆表面形成引导槽，再用超薄刀片完成切割。此工艺结合激光精度与刀切效率，解决化合物半导体（如GaAs、SiC）的脆性开裂问题，加工成本较纯激光方案降低35%。大尺寸晶圆切割面临翘曲变形、应力集中等痛点。中清航科全自动切割机配备多轴联动补偿系统，通过实时监测晶圆形变动态调整切割参数。搭配吸附托盘，将12英寸晶圆平整度误差控制在±2μm内，支持3DNAND多层堆叠结构加工。中清航科晶圆切割机支持物联网运维，故障响应速度提升60%。
当晶圆切割面临复杂图形切割需求时，中清航科的矢量切割技术展现出独特优势。该技术可精确识别任意复杂切割路径，包括圆弧、曲线及异形图案，通过分段速度调节确保每一段切割的平滑过渡，切割轨迹误差控制在2μm以内。目前已成功应用于光电子芯片的精密切割，为AR/VR设备中心器件生产提供有力支持。半导体生产车间的设备协同运作对通信兼容性要求极高，中清航科的晶圆切割设备多方面支持OPCUA通信协议，可与主流MES系统实现实时数据交互。通过标准化数据接口，将切割进度、设备状态、质量数据等信息实时上传至管理平台，助力客户实现生产过程的数字化管控与智能决策。中清航科等离子切割技术处理氮化镓晶圆，热影响区减少60%。温州12英寸半导体晶圆切割代工厂
切割道宽度测量仪中清航科研发，在线检测精度达0.05μm。苏州sic晶圆切割测试
晶圆切割的工艺参数设置需要丰富的经验积累，中清航科开发的智能工艺推荐系统，基于千万级切割数据训练而成。只需输入晶圆材料、厚度、切割道宽等基本参数，系统就能自动生成比较好的切割方案，包括激光功率、切割速度、聚焦位置等关键参数，新手操作人员也能快速达到工程师的工艺水平，大幅降低技术门槛。半导体产业对设备的占地面积有着严格要求，中清航科采用紧凑型设计理念，将晶圆切割设备的占地面积控制在2平方米以内，较传统设备减少40%。在有限空间内，通过巧妙的结构布局实现全部功能集成，同时预留扩展接口，方便后续根据产能需求增加模块，满足不同规模生产车间的布局需求。苏州sic晶圆切割测试
