面向磁传感器制造，中清航科开发超导磁悬浮切割台。晶圆在强磁场（0.5T）下悬浮，消除机械接触应力，切割后磁畴结构畸变率<0.3%，灵敏度波动控制在±0.5%。中清航科电化学回收装置从切割废水中提取金/铜/锡等金属，纯度达99.95%。单条产线年回收贵金属价值超$80万，回收水符合SEMIF78标准，实现零废液排放。针对HJT电池脆弱电极层，中清航科采用热激光控制技术（LCT）。红外激光精确加热切割区至200℃，降低材料脆性，电池效率损失<0.1%，碎片率控制在0.2%以内。第三代半导体切割中清航科提供全套解决方案，良率95%+。绍兴碳化硅线晶圆切割厂
为满足半导体行业的快速交付需求，中清航科建立了高效的设备生产与交付体系。采用柔性化生产模式，标准型号切割设备可实现7天内快速发货，定制化设备交付周期控制在30天以内。同时提供门到门安装调试服务，配备专业技术团队全程跟进，确保设备快速投产。在晶圆切割的工艺参数优化方面，中清航科引入实验设计（DOE）方法。通过多因素正交试验，系统分析激光功率、切割速度、焦点位置等参数对切割质量的影响，建立参数优化模型，可在20组实验内找到比较好工艺组合，较传统试错法减少60%的实验次数，加速新工艺开发进程。南通晶圆切割刀片晶圆切割机预防性维护中清航科定制套餐，设备寿命延长5年。
中清航科飞秒激光双光子聚合技术：在PDMS基板上直写三维微流道（最小宽度15μm），切割精度达±0.25μm，替代传统光刻工艺，开发成本降低80%。中清航科推出“切割即服务”（DaaS）：客户按实际切割面积付费（$0.35/英寸），包含设备/耗材/维护全包。初始投入降低90%，产能弹性伸缩±50%，适配订单波动。中清航科共聚焦激光测距系统实时监测切割深度（分辨率0.1μm），闭环控制切入量。将150μm晶圆切割深度误差压缩至±2μm，背面研磨时间减少40%。
晶圆切割作为半导体制造流程中的关键环节，直接影响芯片的良率与性能。中清航科凭借多年行业积淀，研发出高精度激光切割设备，可实现小切割道宽达20μm，满足5G芯片、车规级半导体等领域的加工需求。其搭载的智能视觉定位系统，能实时校准晶圆位置偏差，将切割精度控制在±1μm以内，为客户提升30%以上的生产效率。在半导体产业快速迭代的当下，晶圆材料呈现多元化趋势，从传统硅基到碳化硅、氮化镓等宽禁带半导体，切割工艺面临更大挑战。中清航科针对性开发多材料适配切割方案，通过可调谐激光波长与动态功率控制技术，完美解决硬脆材料切割时的崩边问题，崩边尺寸可控制在5μm以下，助力第三代半导体器件的规模化生产。MEMS器件晶圆切割中清航科特殊保护层技术，结构完整率99%。
半导体晶圆是一种薄而平的半导体材料圆片，组成通常为硅，主要用于制造集成电路（IC）和其他电子器件的基板。晶圆是构建单个电子组件和电路的基础，各种材料和图案层在晶圆上逐层堆叠形成。由于优异的电子特性，硅成为了常用的半导体晶圆材料。根据掺杂物的添加，硅可以作为良好的绝缘体或导体。此外，硅的储量也十分丰富，上述这些特性都使其成为半导体行业的成本效益选择。其他材料如锗、氮化镓（GaN）、砷化镓（GaAs）和碳化硅（SiC）也具有一定的适用场景，但它们的市场份额远小于硅。晶圆切割大数据平台中清航科开发，实时分析10万+工艺参数。上海芯片晶圆切割划片
中清航科切割机远程诊断系统，故障排除时间缩短70%。绍兴碳化硅线晶圆切割厂
中清航科ESG解决方案：设备内置能源管理模块，智能调节激光功率与主轴转速，单次切割能耗降低42%。碳追踪平台每8小时生成减排报告，助力客户达成碳中和目标，已获全球25家代工厂采购认证。功率器件背面金层在切割中易翘曲。中清航科开发脉冲电流辅助切割，在刀片-晶圆界面施加微电流（<10mA），瞬时加热至150℃软化金层，剥离风险下降90%，剪切强度保持>45MPa。中清航科推出粉尘组分诊断系统：通过LIBS（激光诱导击穿光谱）在线分析颗粒元素构成，自动推荐冷却液配方调整方案。帮助客户减少因金属污染导致的芯片失效，良率提升1.2%。绍兴碳化硅线晶圆切割厂
