在晶圆切割的批量一致性控制方面，中清航科采用统计过程控制（SPC）技术。设备实时采集每片晶圆的切割尺寸数据，通过SPC软件进行分析，绘制控制图，及时发现过程中的异常波动，并自动调整相关参数，使切割尺寸的标准差控制在1μm以内，确保批量产品的一致性。针对薄晶圆切割后的搬运难题，中清航科开发了无损搬运系统。采用特制的真空吸盘与轻柔的取放机构，配合视觉引导，实现薄晶圆的平稳搬运，避免搬运过程中的弯曲与破损。该系统可集成到切割设备中，也可作为单独模块与其他设备对接，提高薄晶圆的处理能力。晶圆切割应急服务中清航科24小时响应，备件储备超2000种。常州砷化镓晶圆切割划片
晶圆切割/裂片是芯片制造过程中的重要工序，属于先进封装(advancedpackaging)的后端工艺(back-end)之一，该工序可以将晶圆分割成单个芯片，用于随后的芯片键合。随着技术的不断发展，对高性能和更小型电子器件的需求增加，晶圆切割/裂片精度及效率控制日益不可或缺。晶圆切割的重要性在于它能够在不损坏嵌入其中的精细结构和电路的情况下分离单个芯片，成功与否取决于分离出来的芯片的质量和产量，以及整个过程的效率。为了实现这些目标，目前已经开发了多种切割技术，每种技术都有其独特的优点和缺点。盐城碳化硅晶圆切割蓝膜超窄街切割方案中清航科实现30μm道宽，芯片数量提升18%。
半导体晶圆的制造过程制造过程始于一个大型单晶硅的生产（晶锭），制造方法包括直拉法与区熔法，这两种方法都涉及从高纯度硅熔池中控制硅晶体的生长。一旦晶锭生产出来，就需要用精密金刚石锯将其切成薄片状晶圆。随后晶圆被抛光以达到镜面般的光滑，确保在后续制造工艺中表面无缺陷。接着，晶圆会经历一系列复杂的制造步骤，包括光刻、蚀刻和掺杂，这些步骤在晶圆表面上形成晶体管、电阻、电容和互连的复杂图案。这些图案在多个层上形成，每一层在电子器件中都有特定的功能。制造过程完成后，晶圆经过晶圆切割分离出单个芯片，芯片会被封装并测试，集成到电子器件和系统中。
针对晶圆切割过程中的静电防护问题，中清航科的设备采用全流程防静电设计。从晶圆上料的导电吸盘到切割区域的离子风扇，再到下料区的防静电输送轨道，形成完整的静电防护体系，将设备表面静电电压控制在50V以下，有效避免静电对敏感芯片造成的潜在损伤。中清航科的晶圆切割设备具备强大的数据分析能力，内置数据挖掘模块可对历史切割数据进行深度分析，识别影响切割质量的关键因素，如环境温度波动、晶圆批次差异等，并自动生成工艺优化建议。通过持续的数据积累与分析，帮助客户不断提升切割工艺水平，实现持续改进。中清航科定制刀轮应对超薄晶圆切割，碎片率降至0.1%以下。
晶圆切割的主要目标之一是从每片晶圆中获得高产量的、功能完整且无损的芯片。产量是半导体制造中的一个关键性能指标，因为它直接影响电子器件生产的成本和效率。更高的产量意味着每个芯片的成本更造能力更大，制造商更能满足不断增长的电子器件需求。晶圆切割直接影响到包含这些分离芯片的电子器件的整体性能。切割过程的精度和准确性需要确保每个芯片按照设计规格分离，尺寸和对准的变化小。这种精度对于在终设备中实现比较好电气性能、热管理和机械稳定性至关重要。复合材料晶圆切割选中清航科多工艺集成设备，兼容激光与刀片。宁波半导体晶圆切割测试
中清航科提供切割工艺认证服务，助客户通过车规级标准。常州砷化镓晶圆切割划片
面对全球半导体产业链的区域化布局趋势，中清航科建立了覆盖亚洲、欧洲、北美地区的本地化服务网络。其7×24小时在线技术支持团队，可通过远程诊断系统快速定位设备故障，配合就近备件仓库，将平均故障修复时间（MTTR）控制在4小时以内，确保客户生产线的连续稳定运行。绿色制造已成为半导体行业的发展共识，中清航科在晶圆切割设备的设计中融入多项节能技术。其研发的变频激光电源，能源转换效率达到92%，较传统设备降低30%的能耗；同时采用水循环冷却系统，水资源回收率达95%以上，帮助客户实现环保指标与生产成本的双重优化。常州砷化镓晶圆切割划片
