清洗剂基本参数
  • 品牌
  • 森纳斯 seanus,seanus
  • 型号
  • 齐全
清洗剂企业商机

蒸发器是废水浓缩、化工溶液浓缩及盐类结晶的重要设备,但在高浓度溶液和长时间蒸发过程中,极易形成厚重难溶垢,如硫酸钙垢、碳酸盐垢及复合有机无机垢。这些垢层覆盖在换热管和罐体内壁,导致换热效率下降、能耗增加,严重时甚至堵塞管道,造成生产停滞。森纳斯难溶垢清洗剂采用高效溶解和剥离技术,能够深入垢层内部,将难溶垢破碎、分散并排出,恢复换热管的洁净光滑。产品安全性高,对不锈钢、钛材及合金管材无腐蚀作用,可在常温或低温下使用,降低能源消耗。针对多效蒸发器、MVR蒸发器及废水蒸发系统,森纳斯清洗剂提供定制化方案,使设备热效率恢复,停机清洗时间缩短,同时降低人工与化学清洗成本,为企业实现高效、稳定的蒸发浓缩作业提供可靠保障。高盐浓缩液结晶堵管如何解决?浙江固体膜清洗剂

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冶金行业的铜冶炼电解槽若附着硫垢,会导致电极接触电阻增大,电解能耗增加 15%,同时影响铜的纯度。传统清洗剂需拆解电极清洗,耗时 72 小时,且易损伤电极涂层。森纳斯硫垢清洗剂针对电解槽场景,研发出电极保护配方,可在不拆解电极的情况下,通过电解槽循环系统注入清洗,不损伤电极涂层。某铜业企业使用后,电解槽电极接触电阻下降 50%,电解能耗减少 12%,单吨铜生产电费节省,且铜纯度从 99.5% 提升至 99.99%,符合高纯铜生产标准。同时,清洗剂可在电解过程中同步使用,无需停机,进一步减少了生产损失。此外,清洗剂废液可回收利用于铜冶炼的浸出工序,实现资源循环,降低了环保成本。固体二氧化硅清洗剂电镀废水处理膜结垢问题严重怎么办?

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化工行业废水处理的冷却塔填料易堆积二氧化硅垢,使填料散热面积减少 30%,冷却塔冷却效率下降 25%,导致循环水温度过高,影响化工生产工艺温度控制,甚至引发生产事故,传统酸洗会腐蚀填料,使填料破损率增加 20%。森纳斯硅垢清洗剂能在几小时内完成对重度硅垢(厚度>5mm)的溶解剥离,相比传统清洗剂 12 小时的处理时间,效率提升一倍,大幅减少设备停机损失。使用时,按比例稀释清洗剂,通过冷却塔循环水泵将清洗剂输送至填料层,循环清洗几小时,期间定期排污,待清洗液中无明显垢渣后,切换为清水循环冲洗,即可恢复冷却塔散热性能。

中水回用系统长期运行后易出现钙镁垢、硅垢及微生物黏附问题,导致管路结垢及过滤性能下降。森纳斯中性清洗剂以pH7-8的稳定体系为基础,可在中性环境下实现垢层分解。产品采用温和络合反应,能有效溶解多类型垢质且对管路、阀件、滤膜无腐蚀性。与传统酸洗不同,森纳斯配方不会破坏系统膜结构或密封圈弹性。在城市污水回用、工业中水循环及冷却补水系统中,该清洗剂广泛应用。它能保持水质平衡,防止系统因pH偏移而导致二次结垢或膜污染,为节水型企业提供可靠保障。使用方式:按比例稀释后循环清洗,清水漂洗即可恢复使用。硫酸钙垢和碳酸钙垢混合结垢,怎么清洗?

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在反渗透(RO)与纳滤(NF)系统运行中,硫酸钙结垢是影响膜通量与寿命的主要因素。森纳斯硫酸钙清洗剂专为膜系统设计,能有效溶解CaSO₄结垢,不会对膜材料造成化学损伤。其分子结构中含有缓释螯合基团,可稳定捕获钙离子并防止其再沉积。产品卖点为“温和高效、不伤膜层”,特别适合长期运行的膜分离装置。森纳斯在高盐水脱盐、海水淡化、再生水回用等领域拥有大量膜清洗应用案例,清洗后膜通量恢复率可达95%以上。使用时建议采用低流速循环模式,药剂浓度控制在3%-5%,清洗时间约1.5-2小时即可。其优异的安全性和效果使其成为膜系统维护的标准化解决方案。蒸发器换热面结垢导致温度上不去怎么处理?温州固体二氧化硅清洗剂怎么收费

高盐冷却循环水换热器结垢太严重怎么清?浙江固体膜清洗剂

冶金行业废水处理的过滤机滤布上易附着硅垢与硫酸钙混合垢,使滤布过滤精度下降,废水过滤后浊度超标,导致后续处理的重金属去除效果受影响,滤布更换周期从 1 个月缩短至 15 天,增加生产成本。森纳斯硅垢清洗剂中的溶解因子能快速分解二氧化硅的 Si - O 键,使硅垢转化为可溶性物质,对硅酸钙、硅酸镁的溶解率高达 95% 以上,远高于传统药剂 60% 的溶解率。使用时,将脏污滤布放入稀释的清洗剂中浸泡,待垢体完全溶解后,用清水冲洗滤布,即可恢复滤布过滤性能。浙江固体膜清洗剂

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