污水处理厂在运行过程中，可能会遇到水质突发恶化的情况，如受到工业废水冲击，导致水中有机物、氨氮等污染物浓度急剧升高。此时，高锰酸钾可用于应急处理。向污水中投入适量的高锰酸钾，其强氧化性能够迅速氧化分解部分有机物，降低污水的化学需氧量（COD），同时对氨氮等还原性物质也有一定的氧化作用。在短时间内改善污水水质，为后续的生物处理等常规工艺争取时间，避免因水质问题导致污水处理厂处理系统崩溃。通过高锰酸钾的应急处理，可保障污水处理厂在突发情况下仍能维持基本的处理能力，减少污水对环境的污染风险，维护周边水环境的稳定。 环境监测中，通过检测高锰酸钾指数，可评估水体中有机物和还原性无机物的污染程度。广州日化高锰酸钾诚信合作
在文物保护领域，高锰酸钾也能发挥一定作用。对于一些金属文物，尤其是铁制文物，长期暴露在空气中容易生锈腐蚀。高锰酸钾可以用于对铁锈进行处理。铁锈的主要成分是铁的氧化物，高锰酸钾在适当条件下能够与铁锈发生氧化还原反应。通过控制高锰酸钾溶液的浓度和处理时间，可以将铁锈中的一些低价铁氧化物进一步氧化为高价态，形成相对稳定的化合物，减缓铁锈继续蔓延，起到保护文物的作用。在对一些纸质文物或木质文物进行保存环境消毒时，低浓度的高锰酸钾溶液也可用于空气消毒或环境表面消毒，杀灭可能存在的有害微生物，为文物保存创造良好的环境，延长文物的寿命。 广州日化高锰酸钾诚信合作生物实验里，高锰酸钾可用于细胞培养环境的消毒，为细胞生长提供无菌条件。
在半导体芯片制造过程中，光刻胶去除是一个重要环节。高锰酸钾可用于光刻胶的去除。光刻胶在芯片制造中用于图案转移，但在完成光刻工艺后，需要将其从芯片表面去除。将含有高锰酸钾的溶液与光刻胶接触，高锰酸钾的强氧化性能够与光刻胶中的有机成分发生反应，使其分解为小分子物质，从而实现光刻胶的去除。与传统的光刻胶去除方法相比，利用高锰酸钾进行去除具有选择性高、对芯片表面损伤小的优点，能够满足半导体芯片制造对高精度、低损伤工艺的要求，提高芯片制造的良品率，推动半导体产业的发展。
文物修复过程中，保护修复材料的稳定性至关重要。高锰酸钾可用于对一些有机修复材料进行预处理。例如，在纸质文物修复中，常用的黏合剂等有机材料在长期保存过程中可能会受到微生物侵蚀和氧化老化。将这些有机材料浸泡在低浓度的高锰酸钾溶液中，高锰酸钾能够氧化材料表面可能存在的微生物和易氧化杂质，形成一层相对稳定的氧化层。这层氧化层不仅可以抑制微生物的进一步侵蚀，还能在一定程度上增强材料的抗氧化性能，延长修复材料的使用寿命，使修复后的文物能够得到更长久的保护，维持其历史和艺术价值。 高锰酸钾在氧化还原滴定实验中，作为标准溶液发挥着关键的定量分析作用。
工业废气中的二氧化硫和氮氧化物是主要的大气污染物，对环境危害极大。高锰酸钾可用于工业废气的脱硫脱硝协同处理。在特定的反应装置中，将含有二氧化硫和氮氧化物的废气通入含有高锰酸钾溶液的吸收塔。高锰酸钾的强氧化性能够同时氧化二氧化硫和部分低价态的氮氧化物。二氧化硫被氧化为硫酸根离子，氮氧化物被氧化为高价态的氮氧化物，更易于后续通过其他方法进行吸收和去除。通过这种协同处理方式，提高了工业废气处理效率，减少了单独处理二氧化硫和氮氧化物所需的设备和成本，有助于实现工业废气的达标排放，改善大气环境质量。 化妆品生产中，高锰酸钾参与部分原料的合成与提纯，确保化妆品质量安全。广东实验室高锰酸钾产品介绍
印染行业里，高锰酸钾可对织物进行预处理，增强染色效果，提升印染质量。广州日化高锰酸钾诚信合作
石油开采过程中，钻井液起着至关重要的作用，而高锰酸钾可用于钻井液的处理。钻井液在循环使用过程中，容易受到地层中各种物质的污染，性能会发生变化。高锰酸钾能够氧化分解钻井液中因与地层接触而混入的部分有机污染物，如原油中的轻质烃类、微生物代谢产生的有机物质等，防止这些污染物影响钻井液的流变性能。同时，对于钻井液中可能存在的一些还原性无机离子，如亚铁离子，高锰酸钾可将其氧化为高价态，避免其在钻井设备表面形成沉淀或腐蚀设备。通过添加适量高锰酸钾，可维持钻井液性能的稳定，确保钻井作业的顺利进行，降低开采成本，提高石油开采效率。 广州日化高锰酸钾诚信合作
