洁净室环境与管道清洁洁净室地面、墙面：去除表面的微尘（≥0.5μm 颗粒需控制在每立方英尺≤1 个），干冰清洗无二次扬尘（CO₂气体可带走粉尘），符合洁净室 “零微粒扩散” 要求。工艺管道（如高纯气体管道、真空管道）：去除管道内的氧化层、焊渣残留，避免气体输送时污染物脱落污染晶圆。酷尔森icestorm干冰清洗在半导体行业的**优势无残留污染：干冰（固态 CO₂）升华后变为气体，无液体、固体残留，彻底避免传统化学清洗（如 HF、SC1/SC2 洗液）带来的离子污染（Na⁺、K⁺等金属离子会导致芯片漏电）。无损保护精密部件：通过参数化控制（颗粒大小 3μm-5mm、压力 0.05-0.8MPa），可适配从纳米级光罩到毫米级模具的清洁需求，避免机械划伤或化学腐蚀（如铝焊盘耐腐蚀性差，无法用酸性清洗剂）。适配 “惰性环境” 需求：CO₂是惰性气体，不与半导体材料（硅、金属、陶瓷）反应，尤其适合光刻、沉积等 “禁化学物质” 的工艺环节。提升生产效率：支持在线清洁（如刻蚀腔体可在工艺间隙清洁，无需停机拆解），传统腔体清洗需 4-8 小时，干冰清洗可缩短至 30 分钟内，设备稼动率提升 20% 以上。干冰颗粒莫氏硬度 1.5–2，能避免表面划伤，适配精密部件的清洁需求。湖南不锈钢干冰清洗联系方式
干冰清洗在锂电行业的**优势适配“无水环境”需求：干冰升华后变为CO₂气体，无水分残留，避免了水洗导致的电芯吸潮。无损保护精密部件：通过调整干冰颗粒大小（3-10mm）和喷射压力（0.1-0.8MPa），可适配极片（薄至10μm）、隔膜（薄至6μm）、精密焊接点等易损部件，避免机械损伤。提升生产效率：支持在线清洁（如涂布机模头可在换料间隙清洁），无需拆卸设备，大幅缩短停机时间（传统拆解清洗需数小时，干冰清洗*需10-30分钟），提升设备稼动率。符合环保与洁净标准：无化学清洗剂残留，CO₂气体可通过排气系统处理，不污染生产环境，满足锂电行业对VOCs（挥发性有机物）零排放的要求。注意事项针对极薄隔膜或软包电芯铝塑膜，需严格控制喷射压力（≤0.2MPa）和距离（≥30cm），避免击穿或变形。在含易燃易爆气体的区域（如注液车间），需确保CO₂浓度在安全范围（避免氧气含量过低），通常配合通风系统使用。总之，酷尔森icestorm干冰清洗通过解决锂电生产中“清洁度、安全性、效率”三大**痛点，成为提升电池一致性、降低不良率、保障生产稳定性的关键技术，尤其适配高容量、高安全性锂电池（如动力电池、储能电池）的规模化生产需求。湖南不锈钢干冰清洗联系方式干冰雪花颗粒尺寸微小（1-200µm），质地柔软，能实现对精密部件和敏感材质的无损清洁。
在半导体行业，生产环境（如 Class 1 级洁净室）和产品（晶圆、芯片、精密部件）对 “零污染、无损伤、超高洁净度” 的要求堪称工业领域**严苛标准之一。酷尔森icestorm干冰清洗凭借无残留、化学惰性、低温无损、适配精密场景等特性，成为解决半导体生产中 “微污染物去除、设备维护、产品良率提升” 的关键技术。其**应用场景覆盖晶圆制造、封装测试及设备维护全流程，具体如下：一、晶圆制造环节：从光刻到沉积 / 刻蚀的精密清洁晶圆（硅片、化合物半导体晶圆）是半导体的**基材，其表面及生产设备的洁净度直接决定芯片的良率（每片晶圆含数百个芯片，一个微米级杂质可能导致整片失效）。干冰清洗在以下关键工序中发挥不可替代的作用：1. 光刻掩模版（光罩）清洁清洁对象：光刻掩模版（表面镀铬层、石英基底）、光罩盒（Pod）。污染问题：光罩是光刻图案的 “母版”，表面若残留纳米级颗粒（≤0.1μm）、有机污染物（如光刻胶残渣）、金属离子，会导致光刻图案转移时出现缺陷（如线宽偏差、图形畸变），直接降低芯片良率。传统清洁（如兆声波清洗、化学湿法清洗）可能引入水分残留或划伤镀铬层（厚度*数十纳米）。
酷尔森环保科技（上海）有限公司的干冰清洗为PCBA清洗提供了一种独特且强大的解决方案，尤其在需要避免水分、化学溶剂、高应力损伤以及清洗难以触及区域的应用中具有不可替代的优势。它非常适合：高可靠性要求的领域（航空航天、医疗设备、汽车电子）。包含对水或溶剂敏感的元件的PCBA。带有BGA、QFN等底部焊点器件的高密度板卡。在线清洗和返工维修场景。然而，成功应用的关键在于充分理解其原理、优势与局限，根据具体的PCBA设计、元件类型和污染物特性，仔细选择设备、优化工艺参数（压力、颗粒尺寸、距离、角度），并做好防护和污染物收集。在应用前，强烈建议在报废板或代表性样品上进行严格的工艺验证和可靠性测试。对于包含锂电池、特殊热敏或机械脆弱元件的板卡，需格外谨慎评估或寻求替代方案。随着制造业对产品质量和环保要求的不断提升，酷尔森干冰清洗在焊装夹具、工装中的应用前景将更加广阔。
酷尔森环保科技（上海）有限公司干冰清洗为PCBA清洗提供了一种独特且强大的解决方案，尤其在需要避免水分、化学溶剂、高应力损伤以及清洗难以触及区域的应用中具有不可替代的优势。它非常适合：高可靠性要求的领域（航空航天、医疗设备、汽车电子）。包含对水或溶剂敏感的元件的PCBA。带有BGA、QFN等底部焊点器件的高密度板卡。在线清洗和返工维修场景。深入清洁：干冰颗粒能有效进入传统方法难以触及的区域，如高密度IC引脚之间、BGA/QFN封装底部与PCB之间的狭窄缝隙、连接器内部、散热片鳍片下方等。环境友好与操作安全：无二次污染： ***的废物是被去除的污染物本身，易于收集处理。不产生废水、废溶剂等危险废物。无毒： 使用食品级二氧化碳，过程安全（需注意通风，防止CO2聚集导致缺氧）。非易燃易爆： 无火灾风险。高效快捷：在线清洗，减少生产停顿时间。清洗效果立即可见。提升可靠性：彻底去除离子性残留物，防止电化学迁移，提高长期可靠性和绝缘性能。避免水洗/溶剂清洗后烘干不彻底带来的潜在风险。使用液态二氧化碳直接清洗，其消耗量约为传统干冰颗粒清洗的三分之一，降低了运营成本。新疆智能干冰清洗价目表
对于铝壳 / 钢壳内壁及盖板，干冰清洗能高效去除金属碎屑和油污，且不损伤铝壳阳极氧化层。湖南不锈钢干冰清洗联系方式
注意事项针对极敏感部件（如光刻机镜头、光罩镀铬层），需采用“超细亚微米干冰颗粒”（0.5-1μm）和“脉冲式低压力喷射”，避免气流冲击导致的微损伤。清洁过程需在洁净室内**区域进行，配合高效过滤器（HEPA）回收剥离的污染物，防止二次扩散。综上，酷尔森icestorm干冰清洗通过解决半导体行业“微污染去除难、精密部件易损伤、清洁与效率矛盾”三大痛点，成为提升芯片良率（尤其先进制程，如7nm及以下）和生产稳定性的**工艺辅助技术，在半导体国产化趋势中，其应用场景正从设备维护向晶圆直接清洁（如先进封装前的焊盘处理）进一步拓展。在半导体行业，生产环境（如 Class 1 级洁净室）和产品（晶圆、芯片、精密部件）对 “零污染、无损伤、超高洁净度” 的要求堪称工业领域**严苛标准之一。干冰清洗凭借无残留、化学惰性、低温无损、适配精密场景等特性，成为解决半导体生产中 “微污染物去除、设备维护、产品良率提升” 的关键技术。湖南不锈钢干冰清洗联系方式
